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Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
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2200C 2800C Forno de deposição de vapor químico CVD para materiais compostos

Detalhes do produto

Marca: Jingtan

Certificação: CE

Termos de pagamento e envio

Quantidade de ordem mínima: 1 conjunto

Preço: USD18,000-100,000/SET

Detalhes da embalagem: caixa de madeira

Tempo de entrega: 60 dias

Termos de pagamento: L/C/T/t

Habilidade da fonte: 10pcs/mês

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Especificações
Destacar:

Forno de deposição de vapor químico CVD

,

2800C Forno de deposição de vapor químico

Local de origem:
Hunan, China
Tipo:
fornalha de indução
Utilização:
Fornalha do tratamento térmico
Inspecção de saída por vídeo:
Fornecido
Relatório de ensaio da máquina:
Fornecido
Componentes essenciais:
PLC, motor, bomba
brand name:
Jingtan
Voltagem:
380
Peso (T):
2 T
Potência (kW):
150
Garantia:
1 ano
Temperatura limite:
2200°C/2800°C
Método de aquecimento:
Resistência ao grafite/aquecimento por indução
Garantia dos componentes principais:
1 ano
Local de origem:
Hunan, China
Tipo:
fornalha de indução
Utilização:
Fornalha do tratamento térmico
Inspecção de saída por vídeo:
Fornecido
Relatório de ensaio da máquina:
Fornecido
Componentes essenciais:
PLC, motor, bomba
brand name:
Jingtan
Voltagem:
380
Peso (T):
2 T
Potência (kW):
150
Garantia:
1 ano
Temperatura limite:
2200°C/2800°C
Método de aquecimento:
Resistência ao grafite/aquecimento por indução
Garantia dos componentes principais:
1 ano
Descrição
2200C 2800C Forno de deposição de vapor químico CVD para materiais compostos
Descrição dos produtos

 

Forno de deposição de vapor
(1) A forma de aquecimento eléctrico: aquecimento uniforme, operação simples, controlo e manutenção fáceis.
(2) O forno é feito de materiais especiais com forte resistência a altas temperaturas, que podem suportar o peso de elementos de aquecimento a altas temperaturas e componentes pesados,e tem um excelente desempenho de vedação, o que pode impedir eficazmente a contaminação do sedimento que cresce no substrato.
(3) Controle de pressão inteligente, pequenas flutuações de pressão;
(4) A estrutura totalmente fechada tem boa estabilidade térmica, bom efeito de vedação e forte capacidade antipoluição;
(5) Caminho de gás de processo multicanal, fluxo uniforme, sem ângulo morto de deposição, bom efeito de deposição;
(6) Sistema de tratamento de gases de escape de alta eficiência em vários estágios, respeitador do ambiente, recolha eficiente de alcatrão e subprodutos, fácil de limpar;
(7)Adoptado o método de arrefecimento, a casca é arrefecida por água, o sistema de arrefecimento rápido de circulação externa pode ser selecionado, o tempo de arrefecimento é curto e a eficiência de produção é elevada.
 
 
Utilização do produto
Utilizado para tratamento CVD/CVI da superfície ou da matriz do material com gás de hidrocarbonetos (como C3H8, CH4, etc.) como fonte de carbono, e para revestimento da superfície do material,modificação da matriz, preparação de materiais compostos, etc.
 
 
Modelo
JT-CJL-04
JT-CJL-14
JT-CJL-31
JT-CJL-74
JT-CJL-127
JT-CJL-211
JT-CJL-326
JT-CJL-588
Tamanho da zona de trabalho
φ×H(mm)
100 × 500
150×800
200 × 1000
250×1500
300×1800
350×2200
400×2600
500×3000
Temperatura limite(°C)
 
2200/2800
 
 
 
 
 
 
 
Uniformidade de temperatura ((°C)
 
±3/±5
 
±3/±5
 
± 5/± 7.5
 
±7,5/±10
 
±7,5/±10
 
±10/±15
 
±10/±15
 
± 15 / ± 20
Grau de vácuo limite ((Pa)
≤ 30
≤ 30
≤ 50
≤ 50
≤ 100
≤ 100
≤ 100
≤ 100
Taxa de aumento da pressão ((Pa/h)
1
1
2
2
5
5
5
5
Método de aquecimento
Resistência ao grafite/aquecimento por indução
 
 
 
 
 
 
 
Os parâmetros acima referidos podem ser ajustados de acordo com os requisitos do processo e não devem ser utilizados como base para a aceitação.Prevalecerão o plano técnico específico e o acordo.
 
 
 
 
 
 
 
 
2200C 2800C Forno de deposição de vapor químico CVD para materiais compostos 0
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