Forno de deposição de vapor químico para compostos orgânicos metálicos

O forno de deposição de vapor pode ser utilizado para aquecer e vaporizar halogenetos metálicos, compostos orgânicos metálicos,Hidrocarbonetos e outras fontes de reação sob pressão específica para gerar sedimentos sólidos na superfície do material alvoÉ também utilizado para deposição química de vapor de materiais compostos com gás hidrocarboneto (como C3H8, etc.) como fonte de carbono, tais como materiais compostos C/C, materiais compostos SiC, CVD,Processamento de CVI.

Características:

1) A temperatura média ou alta, o material sólido é formado e depositado na matriz através da reação química da fase gasosa entre os compostos iniciais na fase gasosa.

2) Pode ser depositado sob pressão atmosférica ou em vácuo (deposição de pressão negativa, geralmente a qualidade da película de deposição de vácuo é melhor).

3) A utilização de plasma e tecnologia assistida por laser pode promover significativamente a reação química, de modo que a deposição possa ser realizada a uma temperatura mais baixa.

4) A composição química do revestimento pode mudar com a alteração da composição da fase gasosa, de modo a obter sedimentos de gradiente ou revestimento misto.

5) Pode controlar a densidade e a pureza do revestimento.

6) em torno das peças revestidas. Pode ser revestido em matriz de forma complexa e material granular. Adequado para revestir todos os tipos de formas complexas da peça de trabalho.pode ser revestido com sulcos, ranhuras, buracos e até mesmo buracos cegos da peça.

7) A camada depositada tem geralmente uma estrutura cristalina de coluna e não é resistente à flexão,Mas a sua estrutura pode ser melhorada pela perturbação da fase gasosa da reação química através de várias técnicas.

8) pode formar uma variedade de revestimentos metálicos, de liga, cerâmicos e compostos através de várias reações.