Equipamento de deposição de fornos CVD para preparação de material semicondutor de película fina

Detalhes do produto

Marca: Jingtan

Certificação: CE

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Quantidade de ordem mínima: 1 conjunto

Preço: USD12,000-100,000/SET

Detalhes da embalagem: Embalagem de caixas de madeira

Tempo de entrega: 60 dias

Termos de pagamento: L/C/T/t

Habilidade da fonte: 30 partes/partes por Quarto

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Especificações

Descrição

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                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                              Equipamento de deposição para materiais semicondutores, Forno CVD para material semicondutor
                                                  

Local de origem:	Hunan, China	Tipo:	fornalha de indução
Utilização:	Forno de deposição	Inspecção de saída por vídeo:	Fornecido
Relatório de ensaio da máquina:	Fornecido	Componentes essenciais:	PLC
brand name:	Jingtan	Voltagem:	380
Peso (T):	2 T	Potência (kW):	220
Principais pontos de venda:	Preço competitivo	Temperatura de projeto (°C):	1250-2200
Temperatura preocupante:	900-1200°C	Taxa de aumento da pressão (Pa/h):	0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Método de aquecimento:	resistência/indução	Ambiente de trabalho:	vácuo/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Tipo de forno:	Quadrado/redondoVertical/Horizontal	Modo de arrefecimento do forno:	refrigeração por água da casca do forno
Instrumento infravermelho:	mono/dobro colorimétrico	Temperatura uniformidade:	± 5
Grau de vácuo limite ((Pa):	1-100	Tipo de comercialização:	Produto ordinário
Garantia dos componentes principais:	1 ano	Indústrias aplicáveis:	Outros, semicondutores

Local de origem:	Hunan, China
Tipo:	fornalha de indução
Utilização:	Forno de deposição
Inspecção de saída por vídeo:	Fornecido
Relatório de ensaio da máquina:	Fornecido
Componentes essenciais:	PLC
brand name:	Jingtan
Voltagem:	380
Peso (T):	2 T
Potência (kW):	220
Principais pontos de venda:	Preço competitivo
Temperatura de projeto (°C):	1250-2200
Temperatura preocupante:	900-1200°C
Taxa de aumento da pressão (Pa/h):	0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Método de aquecimento:	resistência/indução
Ambiente de trabalho:	vácuo/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Tipo de forno:	Quadrado/redondoVertical/Horizontal
Modo de arrefecimento do forno:	refrigeração por água da casca do forno
Instrumento infravermelho:	mono/dobro colorimétrico
Temperatura uniformidade:	± 5
Grau de vácuo limite ((Pa):	1-100
Tipo de comercialização:	Produto ordinário
Garantia dos componentes principais:	1 ano
Indústrias aplicáveis:	Outros, semicondutores

Descrição

Equipamento de deposição de fornos CVD para preparação de material semicondutor de película fina

Especificações:

Fornos de deposição a vácuo:

Utilizado principalmente para a preparação de materiais compostos carbono-carbono e o forno de deposição é utilizado principalmente para a preparação de revestimento pirolítico de carbono na superfície de grafite,Dispositivos semicondutores e materiais de limpeza resistentes ao calor.

Parâmetro/Número de modelo	JT-0305-C	JT-0505-C	JT-0608-C	JT-0608-C	JT-0812-C	JT-1120-C	JT-1218-C	JT-1520-C
Tamanho da zona de trabalho φ×H(mm)	300×500	500×500	600 × 800	600×1200	800×1200	1100×2000	1200×1800	1500×2000
Temperatura máxima (°C)	2300	2300	2300	2300	2300	2300	2300	2300
Uniformidade de temperatura ((°C)	± 5	± 5	± 5/± 7.5	±7,5/±10	±7,5/±10	±10/±15	±10/±15	± 15 / ± 20
Grau de vácuo limite ((Pa)	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100
Grau de vácuo limite ((Pa)	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
Método de aquecimento	Resistência/indução	Resistência/indução	Resistência/indução	Resistência/indução	Resistência/indução	Resistência/indução	Resistência/indução	Resistência/indução

Temperatura de projeto	1250°C/1650°C/1800°C/2200°C
Temperatura comum	900~1200°C
Grau de vácuo	< 50 Pa
Taxa de aumento da pressão	6.67pA/h (ou 150Pa/24h) no estado frio do forno vazio
Modo de aquecimento	aquecimento por resistência ao grafite ou aquecimento por indução, controlo independente da temperatura, boa uniformidade da temperatura
Meio atmosférico	vácuo /CH4/C3H6/H2/N2/Ar

Modo de controlo do gás	Controle do medidor de caudal de massa, caminho de gás multicanal, campo de caudal uniforme, sem ângulo morto de deposição, bom efeito de deposição;Sistema de tratamento de gases de escape de vários estágios e eficiente, ecológico,fácil de limpar
Tipo de forno	estrutura quadrada, redonda, vertical ou horizontal (concepção não padrão), câmara de deposição totalmente fechada, bom efeito de vedação, Forte capacidade antipolução;
Modo de arrefecimento do forno	sistema de refrigeração rápida de circulação externa pode ser selecionado, curto tempo de refrigeração, alta produção eficiência;

Forma da estrutura	descarga horizontal - lateral, vertical - de cima para baixo
Modo de bloqueio	Manual/automático
Material de concha	aço inoxidável interno/todo o aço inoxidável
Material de isolamento	Filtro de carbono/filtro de grafite/filtro curado de fibras de carbono
Instrumento infravermelho	Colourimetria única/colourimetria dupla
Fornecimento de energia	KGPS/IGBT ((apenas adequado para aquecimento de média frequência) Parâmetro do produto: