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Forno de grafitização com capacidade de carga de 375L 500x500x1500 Tamanho da câmara e ±5°C Uniformidade de temperatura para purificação de semicondutores

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Lugar de origem: Hunan, China

Marca: Jingtan

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Quantidade de ordem mínima: 1

Preço: $56,000

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                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                          375L Forno de grafitagem de capacidade de carga, 500x500x1500 Tamanho da câmara Forno de purificação, Máquina de sinterização a vácuo de uniformidade de temperatura ± 5°C
                                                  

Tipo:	Forno de indução	Tensão:	380
Peso:	5 T	Temperatura limite:	2400℃
Método de aquecimento:	Resistência de aquecimento de hastes de grafite	Modelo de controle:	Manual ou automático
Ambiente de trabalho:	Protecção contra o vácuo ou gases inertes	Capacidade de carregamento:	375L
Tamanho da câmara:	5005001500	Uniformidade da temperatura:	± 5°C
Estrutura da fornalha:	horizontal	Material do corpo do forno:	SS 304
ZONA DE ALTA TEMPERATURA:	5005001500	Diferença de temperatura:	± 5°C
Componentes principais:	PLC, recipiente de pressão, bomba, cilindro

Tipo:	Forno de indução
Tensão:	380
Peso:	5 T
Temperatura limite:	2400℃
Método de aquecimento:	Resistência de aquecimento de hastes de grafite
Modelo de controle:	Manual ou automático
Ambiente de trabalho:	Protecção contra o vácuo ou gases inertes
Capacidade de carregamento:	375L
Tamanho da câmara:	5005001500
Uniformidade da temperatura:	± 5°C
Estrutura da fornalha:	horizontal
Material do corpo do forno:	SS 304
ZONA DE ALTA TEMPERATURA:	5005001500
Diferença de temperatura:	± 5°C
Componentes principais:	PLC, recipiente de pressão, bomba, cilindro

Descrição

Forno de grafitização com capacidade de carga de 375L 500x500x1500 Tamanho da câmara e ±5°C Uniformidade de temperatura para purificação de semicondutores

Purificação de semicondutores com combinação de métodos químicos e de alta temperatura Máquina de aquecimento por sinterização a vácuo

Forno de purificação de nanotubos de carbono

Tratamento de purificação combinado do método de alta temperatura e do método químico.

Tratamento térmico de materiais de ânodo de bateria, metalurgia em pó, nanomateriais, grafeno, novos materiais e materiais em pó em atmosfera de vácuo,e sinterização e purificação a alta temperatura numa atmosfera inerte.

Modelo	TCL-45	TCL-128	TCL-375	TCL-720	TCL-1568	TCL-2560	TCL-5000	TCL-7200	TCL-11700
Zona de altas temperaturas (mm)	300300500	400400800	5005001500	6006002000	7007003200	8008004000	100010005000	120012005000	150015005200
Capacidade de carga	45	128	375	720	1568	2560	5000	7200	11700
Diferença de temperatura	± 5			± 10			± 15
Temperatura limite	2400
Modo de aquecimento	Resistência ao aquecimento de hastes de grafite
Modelo de controlo	Operação manual ou automática
Atmosfera de trabalho no forno	Proteção do vácuo ou dos gases inertes (micropressão positiva)

Pode ser usado para purificação por grafite de alta temperatura de materiais de nanotubos de carbono e pode realizar o tratamento de purificação do método de alta temperatura combinado com o método químico.
Pode realizar alimentação e descarga contínuas a alta temperatura, reduzindo o consumo de energia e encurtando o ciclo de produção.
Utilize resistência ou aquecimento por indução, a temperatura pode atingir 2400°C.
A combinação do método de alta temperatura e do método químico pode satisfazer os requisitos de tratamento de alta pureza.
O sistema de filtragem eficiente pode capturar eficazmente a poeira e os gases corrosivos produzidos no processo de purificação.
Pode realizar alimentação e descarga contínuas a alta temperatura, reduzindo o consumo de energia e encurtando o ciclo de produção.

Perguntas Frequentes

É uma fábrica ou uma empresa comercial?

Sim, somos o principal fabricante de fornos de vácuo de alta temperatura da China com mais de 14 anos de experiência, concedido com muitas certificações de patentes no mercado doméstico.

Tem serviços de personalização ou OEM?

Sim, temos uma poderosa equipe de P&D e equipamentos de alta tecnologia. Podemos fornecer modelos regulares e fornos personalizáveis de acordo com os requisitos do cliente.

Quais são as tuas vantagens?

Resposta rápida ao seu pedido
Alto controlo de qualidade
Cadeia de abastecimento estável no mercado interno
Entrega atempada
Excelente serviço pós-venda, incluindo o envio de engenheiros para instalação e depuração

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375L Forno de grafitagem de capacidade de carga

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