Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.

produtos

Casa /

produtos

Graphitization Furnace with 375L Loading Capacity 500x500x1500 Chamber Size and ±5℃ Temperature Uniformity for Semiconductor Purification

Detalhes do produto

Lugar de origem: Hunan, China

Marca: Jingtan

Termos de pagamento e envio

Quantidade de ordem mínima: 1

Preço: $56,000

Obtenha o melhor preço

Contato agora

Especificações

Descrição

Especificações

Destacar: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                          375L Loading Capacity Graphitization Furnace, 500x500x1500 Chamber Size Purification Furnace, ±5℃ Temperature Uniformity Vacuum Sintering Machine
                                                  

Tipo:	Forno de indução	Tensão:	380
Peso:	5 T	Temperatura limite:	2400℃
Método de aquecimento:	Resistência de aquecimento de hastes de grafite	Modelo de controle:	Manual ou automático
Ambiente de trabalho:	Protecção contra o vácuo ou gases inertes	Capacidade de carregamento:	375L
Tamanho da câmara:	5005001500	Uniformidade da temperatura:	± 5°C
Estrutura da fornalha:	horizontal	Material do corpo do forno:	SS 304
ZONA DE ALTA TEMPERATURA:	5005001500	Diferença de temperatura:	± 5°C
Componentes principais:	PLC, recipiente de pressão, bomba, cilindro

Tipo:	Forno de indução
Tensão:	380
Peso:	5 T
Temperatura limite:	2400℃
Método de aquecimento:	Resistência de aquecimento de hastes de grafite
Modelo de controle:	Manual ou automático
Ambiente de trabalho:	Protecção contra o vácuo ou gases inertes
Capacidade de carregamento:	375L
Tamanho da câmara:	5005001500
Uniformidade da temperatura:	± 5°C
Estrutura da fornalha:	horizontal
Material do corpo do forno:	SS 304
ZONA DE ALTA TEMPERATURA:	5005001500
Diferença de temperatura:	± 5°C
Componentes principais:	PLC, recipiente de pressão, bomba, cilindro

Descrição

Graphitization Furnace with 375L Loading Capacity 500x500x1500 Chamber Size and ±5℃ Temperature Uniformity for Semiconductor Purification

Semiconductor Purification With Combination of Chemical and High Temperature Method Vacuum Sintering Heating Machine

Carbon Nanotube Purification Furnace

The combined purification treatment of high temperature method and chemical method. Suitable for new energy vehicles, semiconductors, new materials and many other fields.

Heat treatment of battery anode materials, powder metallurgy, nanomaterials, graphene, new materials and powder materials in vacuum atmosphere, and high temperature sintering and purification in an inert atmosphere.

Model	TCL-45	TCL-128	TCL-375	TCL-720	TCL-1568	TCL-2560	TCL-5000	TCL-7200	TCL-11700
High Temperature Zone (mm)	300300500	400400800	5005001500	6006002000	7007003200	8008004000	100010005000	120012005000	150015005200
Loading Capacity	45	128	375	720	1568	2560	5000	7200	11700
Temperature Difference	±5			±10			±15
Limit Temperature	2400
Heating Mode	resistance graphite rod heating
Control Model	manual or automatic operation
Working Atmosphere in the Furnace	vacuum or inert gas protection (micro positive pressure)

It can be used for high temperature graphitization purification of carbon nanotube materials, and can realize the purification treatment of high temperature method combined with chemical method.
It can realize continuous feeding and discharging at high temperature, reducing energy consumption and shortening production cycle.
Use resistance or induction heating, the temperature can reach 2400℃.
The combination of high temperature method and chemical method can meet the requirements of high purity treatment.
The efficient filtration system can effectively capture the dust and corrosive gases produced in the purification process.
It can realize continuous feeding and discharging at high temperature, reducing energy consumption and shortening production cycle.

Frequently Asked Questions

Are you a factory or trading company?

Yes, we are China leading high-temperature vacuum furnace manufacturer with 14+ years experience, granted with many patent certifications in the domestic market.

Do you have customization or OEM service?

Yes, we have powerful R&D team and high-tech equipment. We can supply both regular models and customizable furnaces according to client requirements.

What's your advantages?

Quick response to your enquiry
High quality control
Stable supply chain in the domestic market
Timely delivery
Excellent after-sales service, including engineer dispatch for installation and debugging

Contact Information

Tags:

Envie-nos a sua solicitação e responderemos o mais rapidamente possível.

Envie

Forno de grafite

Forno de sinterização

Forno contínuo

fornalha da carbonização

Forno de deposição

Equipamento de tratamento de aquecimento eléctrico

Equipamento auxiliar e acessórios de fornos

Graphitization Furnace with 375L Loading Capacity 500x500x1500 Chamber Size and ±5℃ Temperature Uniformity for Semiconductor Purification

375L Loading Capacity Graphitization Furnace

500x500x1500 Chamber Size Purification Furnace

±5℃ Temperature Uniformity Vacuum Sintering Machine

Forno de grafitagem contínua,

Forno de grafitização por indução,

Máquina de grafite

Forno de grafiteamento por indução a vácuo para carbonização

Forno de grafiteamento contínuo a vácuo 3000C para partes estruturais de carbono

Forno de grafite de aquecimento por indução contínua de vácuo de alta temperatura 3000C

Mini-fornos de vácuo de grafite de laboratório de sinterização com ampla faixa de temperatura de 3000C

Forno industrial de grafiteamento a altas temperaturas 3200 graus de resfriamento por água

Forno de grafite de aquecimento a vácuo de alta temperatura com monitoramento inteligente de PLC

Controle automático Forno de vácuo de grafite elétrico 2600 graus Alta temperatura

Forno de grafitização para produção de filme condutor térmico com controlo automático PID

Forno de craqueamento de grafite a vácuo industrial 3000 graus alta temperatura

Forno de purificação contínua a altas temperaturas de 3000 °C para pó de grafite

Forno de craqueamento de grafite de vácuo de alta temperatura com método de atmosfera de argônio

Forno de grafite

Forno de sinterização

Forno contínuo

fornalha da carbonização

Forno de deposição

Equipamento de tratamento de aquecimento eléctrico